上週台積電技術開發資深副總經理張曉強表示，台積電對導入高數值孔徑極紫外光曝光機持保留態度，原因就是價格太高昂。目前台積電旗下只擁有一台這種最先進的晶片製造設備。三星號稱使用這台光刻機，能夠讓整個生產週期縮短60%，但要價四億美元，目前全球也只有五台。美國財經媒體CNBC也獨家揭開這台儀器的面紗，究竟什麼樣的設備讓台積電也望之卻步。
金色的鐵門拉起，眼前是體積超大充滿各種零件組成的超精密儀器。
「這甚至比雙層巴士還要大。」這是荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾推出，新一代高數值孔徑極紫外光曝光機，是EUV的升級版。全世界只有五台，一台就要價四億美元，台積電就擁有這先進晶片製造神器。
新一代極紫光光刻機品管部門主管哈杜表示，建造這套系統約需一年半的時間。
美國前商務部資深顧問考夫曼對此表示肯定：「極其複雜，可謂史上最先進的機床設備。」
雖然是龐然大物但執行任務卻是精細無比，台積電就形容它的精準度就像是從月球發射出雷射光，
但卻能精準打中地球上的一枚硬幣。使用波長只有13.5奈米極紫外光， 大約只有5條DNA排列起來的超精細寬度，在晶圓上刻下藍圖。這次的進階版強調高孔徑，也就是能處理更精細的任務。
艾司摩爾技術副總裁班夏普說明：「我們擴大了鏡頭開角的孔徑，孔徑數值越大，能印刷的圖案就越精細。」
光束透過光學透鏡照射在晶圓上完成曝光，這些曝光構成的圖案， 最後就會製作成智慧手機、伺服器以及推動AI超級的心臟。
哈杜說明：「光線通過投影光學系統投射到晶圓上，晶圓位於此處的矽晶圓片台上。」
由於現在電晶體甚至小到比人類頭髮還要細一萬倍，以往製作先進晶片就必須要重複曝光，但這就會降低良率，現在新一代的High NA就能改善狀況。
班夏普表示，「High NA帶來兩大優勢，首先是縮小尺寸，使單片晶圓能容納更多元件，通過減少多次重複曝光，加快生產速度並提升良率。」
首先獲得這台光刻機的英特爾，已經製造出三萬片的晶片，發現High NA的可靠性是前一代機台的兩倍。三星也表示，使用High NA能將整個生產週期縮短60%。目前全世界就只有艾司摩爾能製造出這樣精密的儀器。儘管屬於獨佔事業，艾司摩爾並沒有讓新一代儀器價格翻倍攀升，其實是商業考量。
「摩爾定律要求我們持續降低成本，以推進到更先進的製程節點，一步步向前」艾司摩爾執行長福凱認為，若這進程停滯，一切都將陷入瓶頸。
但晶片大廠想引進最先進High NA，除了有本事砸下四億美元，後續還有其他高昂的成本，並且會消耗非常多的能源。
福凱說到：「我認為當前AI晶片的能耗過高，若不逐步提升其能源效率，模型訓練可能在2035年左右耗盡全球能源，從2018年採用極紫外光（EUV）技術以來，我們已將每片晶圓曝光的能耗降低超過60%。」
目前High NA可以全年無休，每小時能處理200片晶圓，未來希望能再提升數量。而艾司摩爾已經在摩拳擦掌，準備跟隨半導體製造需求，推出下一代Hyper NA光刻機。先進晶片的製作實力，就看艾司摩爾怎麼在背後推進。
