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台積電衝先進製程 法人估資本支出逾200億美元


發佈時間:2021/01/04 11:30
最後更新時間:2021/01/04 11:30
晶圓代工廠台積電。(圖/中央社)
晶圓代工廠台積電。(圖/中央社)

晶圓代工廠台積電持續積極衝刺先進製程技術,法人預期,台積電2021年資本支出可能突破200億美元,將刷新歷史新高紀錄。

台積電法人說明會定14日舉行,今年資本支出計畫成為市場關注焦點,市場揣測,台積電為擴充5奈米產能,建置3奈米產能,及2奈米製程研發,今年資本支出將突破200億美元,不排除上看220億美元規模。

 

台積電指出,目前為法說會前緘默期,將避免與投資機構及券商聯繫,今年資本支出計畫將於法說會對外說明。

法人表示,台積電5奈米與3奈米製程都將採用極紫外光(EUV)系統,一台EUV系統金額超過1億歐元,是影響台積電近年資本支出大增的主因。

台積電今年5奈米產能將逐步擴增至月產10萬片規模,3奈米預計2022年下半年量產。法人指出,台積電美國亞利桑那州5奈米廠將於今年動工興建,也將影響台積電資本支出增加。
 

台積電今天股價開平震盪走高,盤中一度達新台幣535元,漲5元,刷新歷史新高價,市值增加1296億元,攀高至13.87兆元,並貢獻大盤約42點。

台積電資本支出金額有機會突破200億美元,再創歷史新高,激勵家登、均華及均豪等台積電供應商股價紛紛走高,其中,均華股價強攻漲停,達64.9元。均豪股價一度達44.25元,漲5.73%。家登也一度達276元,漲約1.1%。(中央社)
 
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