晶圓代工廠聯電。（圖／翻攝自Google map）
聯電被控侵害美光營業秘密，二審宣告何姓、王姓員工緩刑，戎姓主管無罪，最高法院今天將3人涉案部分發回更審。聯電二審遭判罰金新台幣2000萬元，緩刑2年，未上訴已確定。
根據一審判決書，案件起源於民國105年，當時聯電與中國福建晉華集成電路公司簽署技術合作協定，協助中國福建晉華開發32奈米DRAM相關製程技術，前台灣美光公司何姓與王姓員工隨即轉任聯電，引發商業間諜案疑雲。
台中地方法院檢察署於民國106年8月以聯電員工涉嫌侵害美光的營業秘密為由，依營業秘密法提起公訴。
歷經近3年審理，台中地方法院在109年分別判處涉案跳槽聯電的前台灣美光公司何姓與王姓員工5年6月及4年6月、聯電戎姓主管6年6月徒刑，聯電處罰金1億元。
案經上訴，二審由智慧財產及商業法院審理，撤銷一審判決，改判戎姓主管無罪及公訴不受理，何姓與王姓員工6個月至1年不等徒刑，均緩刑，聯電處罰金2000萬元，緩刑2年。
二審指出，美光公司是國際級科技公司，長期投入大量人力及資源研發，何男、王男與美光公司簽訂有保密及智慧財產權合約，卻重製、使用美光公司DRAM製程相關營業秘密，洩漏給聯電戎姓主管，影響美光公司權益甚鉅。
二審考量，聯電公司與美光公司和解，美光公司並具狀表示對各被告從輕量刑無意見；二審審酌聯電公司積極謀求補償，與何男、王男應已知所警惕，因此宣告緩刑。
聯電公司在二審判決後未上訴，檢察官也未上訴，因此判處罰金確定，緩刑2年。
檢察官針對何姓、王姓員工及戎姓主管提起上訴，最高法院認為，二審判決有主文與理由矛盾等違誤，無罪部分未就案內全部事證深入研求而理由不備，今天將3人涉案部分發回智慧財產及商業法院更審。（中央社）
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更新時間：2022/08/17 16:36