台灣積體電路製造股份有限公司（台積電）即將於16日舉行2025年首場法人說明會，半導體微影設備製造龍頭艾司摩爾（ASML）執行長「克里斯多夫·富凱」（Christophe Fouquet）近期將再度率領公司高層來台，拜訪台積電與關鍵供應商。業界人士預期，除了討論極紫外光（EUV）設備發展及下世代機台相關規劃外，美國新政府上台後的政策方向也是此行重點議題之一。
據了解，艾司摩爾監事會於2024年4月股東大會提名富凱擔任新任執行長兼總裁一職。事實上，艾司摩爾高層每年都有亞洲客戶拜訪行程，僅2020年因防疫措施而未能成行，去年開春首月即立即拜會台積電，今年自然也不例外。
業界認為，艾司摩爾此行將與台積電主要高階主管及關鍵供應商會面，就產品技術、製程規劃、業務合作進行全面性的討論。其中，高數值孔徑極紫外（High-NA EUV）微影曝光機的導入時程、美國新政府政策等議題，更是此行的重中之重。
根據艾司摩爾公開資訊，新一代High-NA EUV設備已於2023年底開始陸續出貨，產能預計每小時可曝光超過185片晶圓，可支援2奈米以下邏輯晶片及具有相似電晶體密度的記憶體晶片量產。據悉，該設備要價超過3億歐元，英特爾將率先採用，三星亦規劃在今年取得首台設備。
值得一提的是，台積電自7奈米製程起即導入EUV設備，之後的5奈米、3奈米更是全面採用，去年更已取得首套High-NA EUV設備進行試用。業界人士指出，台積電最快將在A14P製程小量採購High-NA EUV曝光機練兵，並於A10製程進入大規模採用，穩居艾司摩爾的最大客戶寶座！
艾司摩爾近期法說會預估，2025年集團銷售額可望達到300億至350億歐元，其中，中國市場佔比約20%，較2024年的50%大幅降低。富凱先前接受荷蘭鹿特丹商報（NRC）專訪時更直言，由於中國企業無法取得最先進的EUV微影設備，晶片製程技術仍落後英特爾、台積電與三星電子等業界巨擘約10至15年之久。
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