印度理工學院甘地納加分校（IIT Gandhinagar）研究團隊宣布，開發出號稱世界最薄的材料，厚度僅1奈米，為一張紙的10萬分之一，將用於下一代電池和吸收紫外線的薄膜。
印度科學網（India Science Wire）報導，印度理工學院甘地納加分校團隊利用二硼化鎂製造出前所未有的奈米材料，厚度僅1奈米。人類一根頭髮直徑約8萬奈米，人類去氧核醣核酸（DNA）直徑約2.5奈米。
參與這項研究的印度理工學院甘地納加分校化工系助理教授賈蘇甲（Kabeer Jasuja）說，新材料製造方法是應用二硼化鎂溶於水，讓它在適當的時間重新結晶，就可製作出硼原子排列成蜂巢狀的奈米片。
賈蘇甲指出，其他類似的奈米材料花費比他們的新材料更昂貴，也限制了應用。
賈蘇甲宣稱，新材料具備低密度、高機械強度，輕量、耐熱、耐化學侵蝕等特點，應用性更高，可用在製造吸收紫外線的薄膜、工程用儲氫材料，以及下一代電池和奈米催化劑等。
他指出，這項研究成果已經在發表在ChemPhysChem科學期刊上。（中央社）
圖／The Wire
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