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晶片戰大逆轉!中國自研DUV量產 ASML與美股設備商重挫

責任編輯 李作皊 報導
發佈時間:2026/07/28 10:52
最後更新時間:2026/07/28 10:52
美國科技新聞媒體The Information今天報導,中國已開始生產自研的浸潤式深紫外光曝光機(DUV),這項晶片製造關鍵設備長期由荷蘭供應商艾司摩爾(ASML)主導。(示意圖/shuttersto
美國科技新聞媒體The Information今天報導,中國已開始生產自研的浸潤式深紫外光曝光機(DUV),這項晶片製造關鍵設備長期由荷蘭供應商艾司摩爾(ASML)主導。(示意圖/shutterstock達志影像)

美國科技新聞媒體The Information今天報導,中國已開始生產自研的浸潤式深紫外光曝光機(DUV)。這項晶片製造關鍵設備長期由荷蘭供應商艾司摩爾(ASML)主導。

The Information引述知情人士指出,預計這些DUV設備將於今年交付中國主要晶片製造商,包括中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲。

 

路透社報導,消息傳出後,ASML股價應聲下跌4.6%。

根據彭博(Bloomberg News),美國半導體公司應用材料(Applied Materials)、科林研發(Lam Research)及科磊(KLA)公司分別下跌4%、4.3%及3.5%。(中央社)
 


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