全球半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML）近期計畫調漲晶片製造設備價格，包括極紫外光（EUV）與深紫外光（DUV）曝光機，漲幅至少達10%。然而，外媒指出，知情人士透露ASML最大客戶台積電已對此漲價方案表達反對立場，雙方正就價格調整進行協商。
台積電反對EUV與DUV同步漲價
據《The Information》報導，ASML近幾週已向包含中國晶片廠在內的多家客戶告知漲價意向，部分中國業者已同意接受DUV設備調價，但台積電對EUV與DUV設備同步漲價持反對態度。目前ASML最先進DUV曝光機單價約9,000萬美元，上一代EUV設備約2.2億美元，最新一代機型售價更高達4億美元(約130億台幣)。
加拿大皇家銀行旗下的RBC Capital Markets分析師帕朱里（Srini Pajjuri）等人指出，台積電、三星電子、SK海力士等ASML主要客戶業績表現強勁，使當前市場環境「具備漲價條件」。ASML財務長達森（Roger Dassen）也表示，低數值孔徑EUV設備生產效率持續提升，為未來價格調整提供相當大空間，但由於設備訂單交付周期較長，價格調整效益不會立即顯現。
ASML同日宣布今年第二度上調全年銷售預測，預估2026年淨銷售額將達430億至450億歐元。此外，英特爾已開始使用ASML最先進曝光機進行晶片生產，ASML執行長福克（Christophe Fouquet）認為這顯示該設備已具備商業化生產可行性。
