曾任台積電12廠良率部門工程師的陳力銘，跳槽至台積電供應商、東京威力科創台灣子公司擔任經理後，為提升該公司蝕刻機台的良率，竟自2023年起，透過清大學弟吳秉駿及同僚戈一平，利用筆電登入台積電內網。陳力銘隨後以手機翻攝二奈米製程的測試數據，照片多達數百張，其中14張更被鑑定為「國家核心關鍵技術」。4人涉犯《國家安全法》遭起訴，智財商業法院合議庭今（27）日上午11點進行宣判，陳力銘10年、吳秉駿3年、戈一平2年、陳韋傑6年；東京威力科創女主管盧怡尹判刑10月、緩刑3年，需支付公庫100萬元。東京威力科創判罰1億5000萬，全案可上訴。
高檢署連三波起訴 洩密範圍擴及14奈米以下製程
檢方調查過程中進一步發現，陳力銘不僅鎖定二奈米技術，更勾結另一名在職工程師陳韋傑，竊取「14奈米以下製程之IC製造技術」及關鍵化學品、設備參數。此外，東京威力科創台灣子公司的高階主管盧怡尹，因涉嫌在案發後刪除雲端硬碟中的證據，被依滅證罪起訴。檢方針對主謀陳力銘具體求刑21年，對相關工程師及公司也分別求處重刑與億元罰金。
檢方針對本案共發動三波起訴，首波針對「2奈米洩密」，建請重判主謀陳力銘14年，同夥吳秉駿、戈一平分別求刑9年與7年；第二波則針對東京威力科創公司被依《營業秘密法》建請罰金1.2億元。第三波則偵結「14奈米洩密案」，陳力銘與陳韋傑分別遭求刑7年及8年8月，公司部分追加2500萬元罰金，而涉嫌滅證的高階主管盧怡尹則被求刑1年。
智財法院今日宣判 僅工程師陳韋傑不認罪
在審理過程中，陳力銘、吳秉駿及戈一平均已坦承犯行，僅陳韋傑至今仍否認犯罪，而吳秉駿與戈一平已分別獲准以300萬、200萬元交保，但須配戴電子腳鐶監控；而主嫌陳力銘與不認罪的陳韋傑則因情節重大，自去年案發後羈押至今。智財商業法院合議庭今日上午11點進行宣判，陳力銘10年、吳秉駿3年、戈一平2年、陳韋傑6年，全案可上訴。
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