世界半導體產業新突破國內首創LED光源投影曝光機

發佈時間：2023/12/21 09:00

有「工業製造皇冠明珠」之稱的半導體曝光機，曾在全球戰略管制瓦森納協議中，被列為協議管制首要關鍵，除了是全球競逐的技術，在國防裡也佔有一席之地。由台灣半導體產業推出的全球第一套LED光源投影曝光機，競爭優勢及市場商機引起國際關注。

微影半導體董事長胡德立：「這一次由我們微影半導體，自主研發的半導體光刻機，是全球第一家採用綠能，無汞無毒的LED曝光技術，這是一種高效且環保的新一代半導體生產設備」。

相較於傳統使用的劇毒汞燈，LED紫外光源不僅節能，還能減少汞污染。

微影半導體董事長胡德立：「我們的光刻機採用的是紫外光的LED燈，能耗只有汞燈的1%。不但如此，我們還自行研發了高景深長焦鏡頭，來配合LED光源，這樣可以大幅的提升曝光品質和效率，並且還能適應各種半導體製程的需求」。

由國人主導自主研發的塗佈顯影、曝光及檢測，三大黃光核心製程技術，目標是成為全球半導體設備的領導者。

微影半導體董事長胡德立：「未來規劃目標來講，就是我們希望在台灣或甚至全球來做這個事情，那下一步我們希望能夠在推進到，譬如說KrF、DUV，甚至有機會走到UV，那這個就是未來看怎麼樣去演進，希望能夠去召集全球最好的一個工程師還有團隊一起，共同來做這件事情」。

近年科技發展蓬勃，如何將創新技術結合環境永續，也成市場未來動向。